Bain de placage d'or rouge JE224 - 4 g/L Au
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Informations sur le produit "Bain de placage d'or rouge JE224 - 4 g/L Au"
Le bain d'or rouge JE224 est un électrolyte neutre pour l'or avec une valeur pH stable qui fonctionne sans cyanure libre. L'électrolyte est utilisé pour le dépôt de couches d'or rouge et de cuivre de 18 carats.
Il convient aux applications techniques et décoratives, car les couches déposées sont très dures et résistantes à l'abrasion. Malgré des revêtements à faible teneur en or, l'électrolyte présente une très bonne résistance à la corrosion et au ternissement. Dans des conditions optimales, des couches d'or très brillantes et adhésives jusqu'à max. 10 μm d'épaisseur peuvent être déposées.
Données de travail:
Teneur en or: 4 g/L (3,5-4,5)
Teneur en cuivre: 3 g/L (2,5-3,5)
pH: 7,5 (7,2-8,0)
Densité > 1,07 g/ml
Conditions de travail:
Tension: 1,6 V (1,4-1,8)
Température du bain: 57 °C (55-60)
Matériau de l'anode: titane platiné / MOX
Agitation: necessaire
Surface anode/cathode: env. 2:1
Taux de dépôt: ca. 45 mg/Amin
Densité de courant: ca. 0,3 A/dm2 (0,1-0,5)
Filtration du bain: à partir de 10 litres
Vitesse de dépôt: env. 0,1 µm/min
Données de déposition:
Dureté: 380 - 400 HV
Épaisseur maximale 10 µm
Il convient aux applications techniques et décoratives, car les couches déposées sont très dures et résistantes à l'abrasion. Malgré des revêtements à faible teneur en or, l'électrolyte présente une très bonne résistance à la corrosion et au ternissement. Dans des conditions optimales, des couches d'or très brillantes et adhésives jusqu'à max. 10 μm d'épaisseur peuvent être déposées.
Données de travail:
Teneur en or: 4 g/L (3,5-4,5)
Teneur en cuivre: 3 g/L (2,5-3,5)
pH: 7,5 (7,2-8,0)
Densité > 1,07 g/ml
Conditions de travail:
Tension: 1,6 V (1,4-1,8)
Température du bain: 57 °C (55-60)
Matériau de l'anode: titane platiné / MOX
Agitation: necessaire
Surface anode/cathode: env. 2:1
Taux de dépôt: ca. 45 mg/Amin
Densité de courant: ca. 0,3 A/dm2 (0,1-0,5)
Filtration du bain: à partir de 10 litres
Vitesse de dépôt: env. 0,1 µm/min
Données de déposition:
Dureté: 380 - 400 HV
Épaisseur maximale 10 µm
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